一、环氧磨石表面处理传统工艺

1、开面后对孔洞用环氧砂浆修补后打磨，修补1-2道碟后直接水磨到3000号碟；

2、表面干燥后用聚胺脂罩面，干燥后即可以使用。

二、传统工艺存在的问题

（一）修补存在问题

无论用环氧砂浆修复多少遍，均无法将其表面孔洞或毛孔较为彻底地修复，因为砂浆会造成一定量气孔在打磨后再次出现，同时，打磨后边碟时也会带出原表面不存在的新的气孔。

（二）罩面或抛光存在问题

1、尽失美感：无法充分彰显出“石米”的立体感和颜色美；光泽整体成鱼鳞状、散光；物体倒影弯曲变形，不真实；

2、耐候性差：有机材料在环境中容易被紫外线酸碱老化，不能持久；

3、耐磨性差：由于修补工艺的缺憾，罩面后，表面仍然存在不平整现象，摩擦受阻，表面容易出现划痕；同时有机物的硬度与无机物相比也差些，常出现划伤和剥脱。

有机罩面处理后光泽模糊

三、纳米二氧化硅修补与晶面工艺 

1、环氧开面后的修补：开面后对孔洞用环氧砂浆修补后打磨，修补1-2道碟；

2、无机微填充修补：用500号的厚碟一边打磨一边喷“魔硅”，将打磨出来的粉料在魔硅的湿润下填入孔洞中，能充分而彻底地将新旧孔洞一并修复成玻璃表面。

四、环氧磨石表面处理全新工艺

1、渗硅：500号打磨后，用喷壶将魔硅均匀喷洒于环氧表面并充分干燥（表面无明显水渍）。由于环氧吸水力差，要加强空气流动；

2、水磨1000号碟：表面魔硅干燥后，用水磨碟细致打磨；

3、底光要求：1000号水磨碟打磨后出光在20-30度左右；

4、无机晶面：表面干燥后用晶面机（或正一品“膏抛机”）抛108度特种石材晶面膏1-2遍，若仍存在抛光不均匀时，可用111度膏剂浆修复晶面。

无机处理表面光泽真实、清晰、纯正、自然

五、新工艺优点

1、施工简单、一气呵成：全程基本无过长的等待时间，一气呵成，做完便可以使用；

2、美到极致：玻璃质感强烈，其中的“石米”立体感与颜色彰显极致；光泽纯正真实，光泽倒影加倍“放大”了空间；

3、功能性强：耐磨防滑性强，耐候性好，特别是对紫外线反射效果好，能有效防止环氧地坪被紫外线老化；

六、注意事项

1、碟片选择：填充务必使用硬厚碟，不脱色；

2、渗透剂选择：渗透修补剂不能用可溶于水的粘稠水玻璃类；

3、底光要求：1000号水磨碟打磨出光在20-30度左右；

4、晶面膏要求：打磨后的一遍使用纳米二氧化硅晶面膏，不能含蜡质；

5、分隔条染色：若存在分隔条时，大些的孔洞修补尽量用环氧修补，防止用无机干磨修补分隔条污染板面；

6、晶面机或高速机要求：抛光务必用垫子，不可用钢丝棉，高抛机或正一品膏抛机转速不能高于1000转/分钟。

经过此全新工艺处理过后的效果